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美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀

日期:2025-05-12 10:54
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摘要:美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀采用**的激光器掃描技術開發(fā)出一種新型的光學掃描系統(tǒng)AT1,用來對材料整個表面的缺陷進行繪圖和分類,薄膜缺陷掃描靈敏度<0.5nm。其在透明材料上亞納米薄膜涂層的成像能力是****的,可區(qū)分透明基底的頂部/底部特征。AT1已被普遍用于藍寶石、玻璃和硅等材料的表面缺陷檢測。
美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀
 美國Lumina公司采用**的激光器掃描技術開發(fā)出一種新型的光學掃描系統(tǒng)AT1,用來對材料整個表面的缺陷進行繪圖和分類,薄膜缺陷掃描靈敏度<0.5nm。其在透明材料上亞納米薄膜涂層的成像能力是****的,可區(qū)分透明基底的頂部/底部特征。AT1已被普遍用于藍寶石、玻璃和硅等材料的表面缺陷檢測。
 
 美國Lumina公司表面缺陷光學掃描儀產(chǎn)品特征:
 1.透明、半透明和不透明的材料均可測量,比如硅、化合物半導體或金屬基底;
 2.實現(xiàn)亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像;
 3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘,50x50mm樣品30秒內(nèi)可完成掃描并顯示結(jié)果;
 4.高抗震性能,系統(tǒng)不旋轉(zhuǎn),形狀無關,可容納非圓形和易碎的基底材料;
 5.高達300x300mm的掃描區(qū)域;可定位缺陷,以便進一步分析;
 
 AT1有四個檢測通道,采用四種獨立的方法:偏振,亮場,坡度和暗場,幾分鐘內(nèi),就能提供材料表面的四張完整圖像,每個圖像代表特定的缺陷:
 1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點;
 2.坡度通道用于凹坑、凸起;
 3.反射通道用于粗糙表面的顆粒;
 4.暗場通道用于微粒和劃痕;
 
 基于多次檢測,AT1生成缺陷圖和報告,包括:
 1.地圖和位置;
 2.顏色標注的缺陷;
 3.缺陷的尺寸和圖像;
  
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